포토리소그래피에 맞게 강화된 공기 중 분자 필터 성능
공기 중 분자 오염(AMC)은 제조 시 문제를 유발합니다. Donaldson 렌즈 보호 시스템(LPS) 기술은 원하는 결과를 가장 효과적으로 달성할 수 있는 수단을 제공합니다.
닫기
공기 중 분자 오염(AMC)은 제조 시 문제를 유발합니다. Donaldson 렌즈 보호 시스템(LPS) 기술은 원하는 결과를 가장 효과적으로 달성할 수 있는 수단을 제공합니다.