-
Продукты и решения
- Резервуарная фильтрация
- Сжатый воздух и газ
- Решения для компрессоров
- Дисковые накопители
- Фильтры и компоненты двигателей и транспортных средств
- Решения для OEM
- Топливные элементы
- Решения для газовых турбин
- Решения для гидравлики
- Промышленная пыль, дым и масляный туман
- Мембраны
- Технологические процессы
- Производственная печать
- Полупроводники
- Вентиляция
-
Все отрасли
- Авиационно-космическая техника
- Сельское хозяйство
- Автомобильная промышленность
- Биотехнология
- Строительство
- Дисковые накопители
- Электроника
- Энергетика
- Производство пищевых продуктов и напитков
- Лесная промышленность
- Печать и полиграфия
- Производственный процесс
- Производство
- Судостроение и судоходство
- Подъемно-транспортное оборудование
- Медицина
- Добыча полезных ископаемых
- Упаковка
- Фармацевтика
- Силовые передачи
- Производство электроэнергии
- Железная дорога
- Транспорт
- О нас
Повышенная эффективность фильтров содержащихся в воздухе молекулярных загрязнений для фотолитографии
Содержащиеся в воздухе молекулярные загрязнения (AMC) являются причиной осложнений, возникающих при производстве полупроводников. Разработанная компанией Donaldson технология для систем защиты линз (LPS) обеспечивает наиболее эффективный способ достижения желаемых и даже более высоких результатов.
Закрыть
